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低辐射镀膜生产线
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  • 产品简介

  优德88镀膜水平式建筑镀膜线，采用磁控溅射沉积技术，在玻璃表面沉积一系列介质和金属薄膜，主要用于加工各种low-E玻璃、AR膜，以及阳光控制玻璃等。
  
  设备特点：
  
  1. 溅射室由一系列结构相同的795mm井位单元构成
  
  2. 泵井位采用独特的气体隔离装置
  
  3. 应用新一代以铝型材为支撑结构的可调式磁棒
  
  4. 设计5-9段辅助工艺气体分配系统，每一段可以选择不同类型的气体
  
  5. 采用伺服电机控制，实现传输的高精度控制。
  
  6. 不断缩小进/出口室腔体体积，提高节拍，降低成本
  
  7. 工艺气体分配系统集成在阴极盖板上
  
  8. 每一个阴极单元都配有独立的控制系统
  
  9. 前后室采用整体式盖板设计，可实现机械提升和液压提升
  
  10. 镀膜区采用磁悬浮分子泵和干泵

  技术参数：

SE2540H系列

SE3300H系列

基片

浮法玻璃，钢化玻璃，夹胶玻璃等

基片尺寸

Max. 2540×3660mm（可定制）

Max. 3300×6000mm（可定制）

基片厚度

3-19mm（可定制）

机械节拍

> 20s

>30s

极限真空

< 2E-6mbar

有效运行时间

>95%

膜层均匀性

≤±1.0%


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